문서의 임의 삭제는 제재 대상으로, 문서를 삭제하려면 삭제 토론을 진행해야 합니다. 문서 보기문서 삭제토론 이란/과학기술 (문단 편집) === 반도체 생산 설비 제작 기술 === 리소그래피 장비는 반도체 장치에서 가장 중요한 공정 중 하나이며 리소그래피 기술에서 먼저 패턴의 디자인을 마스크에 형성한 다음 해당 디자인을 원하는 재료에 전사하여 원하는 제품을 생산합니다. 이 방법의 도움으로 정밀하고 나노 수준의 치수의 구조를 만들 수 있으며 Tapish 리소그래피 공정은 이란의 반도체 장치 제조에서 가장 중요한 병목 현상 중 하나였으며 몇 년 동안 Ajineh Company는 광학 리소그래피 공정을 수행하기 위해 정교한 기술로 다양한 제품을 생산하여 이 분야에서 국가 발전을 위한 큰 발걸음을 옮기고 있다. 광학 리소그래피 시스템의 핵심은 이러한 목적에 종종 UV를 사용하는 노광 시스템이며 패턴에서 생성할 수 있는 가장 작은 치수는 광원의 파장에 의해 결정하고 있어 높은 정확도를 가지거나 작은 디자인을 만들 수 있는 능력을 갖기 위해 사용 가능한 가장 작은 파장의 빛이 사용되고 있다. 포토레지스트라고 하는 감광성 고분자 액체에 자외선을 가할 때 발생하는 화학 반응을 기반으로 하고 있으며 포토레지스트에 대한 UV 노출은 포토레지스트 폴리머 사슬 사이에 강한 결합(네거티브 포토레지스트에서) 또는 약해진(포지티브 포토레지스트에서) 결합을 유발할 수 있다. 이러한 결합이 느슨해지면 이러한 부분을 적절한 용매에 용해시키고 샘플에서 제거할 수 있으며 그 결과 광원과 시료 사이에 마스크를 배치하여 마스크가 어두운 영역에서 빛이 포토레지스트에 부딪히는 것을 방지하고 나머지 투명한 마스크는 빛을 투과시키며 언급된 화학 반응을 수행함으로써 포토레지스트의 노출된 부분이 용매에 용해되고 분리되어 마스크의 패턴이 샘플에 전사된다. 설명을 통해 리소그래피 공정의 첫번째 단계는 샘플에 포토레지스트를 회전시켜 샘플에 완전히 균일한 레이어를 생성하는 것임을 매우 분명하며 광원이 고정되고 정확한 초점거리에 집속되기 때문이며 시료의 표면이 균일하지 않으면 일부 영역에서 빛이 집속되지 않고 조명 동작이 제대로 이루어지지 않을 수 있다. 스피너의 회전 속도는 이 단계에서 중요한 역할을 하며 다음 단계에서는 조명 전에 포토레지스트가 강한 결합을 하고 그 안의 용매가 증발하기 위해 샘플을 몇 분 동안 가열해야 하며 이를 사전 요리라고 한다. 고분자 포토레지스트의 경화 단계는 온도 제어 및 경화 시간 측면에서 매우 중요하며 그래서 Ajineh Company는 리소그래피 공정의 중요하고 기본적인 부분을 소비자에게 함께 제공하는 제품을 선보이며 그리고 현재 이 반자동 리소그래피 장비로 집적회로, 데이터 저장 장치와 소형 센서, 그리고 MEMS 및 NEMS를 구성하여 제작할 수 있다.[[https://nanoproduct.ir/product/3704/%D8%AF%D8%B3%D8%AA%DA%AF%D8%A7%D9%87%20%D9%86%DB%8C%D9%85%D9%87%20%D8%A7%D8%AA%D9%88%D9%85%D8%A7%D8%AA%DB%8C%DA%A9%20%D9%84%DB%8C%D8%AA%D9%88%DA%AF%D8%B1%D8%A7%D9%81%DB%8C%20%DA%A9%D8%A7%D9%85%D9%84|출처]] 스퍼터링은 에너지 입자, 특히 가스 이온에 의한 타겟의 충격으로 인해 코팅될 물질인 고체 타겟(음극)의 원자를 분리하는 물리적기상증착방법으로 기판(양극)의 타겟에서 방출된 원자의 축적으로 원자 간 레이어링이 발생하며 이 방법에서는 하전 입자와 타겟의 물리적 상호 작용을 사용하여 타겟을 증발하고 있다. 대전된 이온 및 입자는 스퍼터링 챔버에서 가스의 방전 및 이온화에 의해 형성되며 고에너지 입자가 포격해 표적 표면에 충돌하면 원자나 분자가 표면에서 떨어져 나와 버려지고 있다. 분산된 입자는 플라즈마 생성장에서 가속되어 기판에 정착하며 기판은 양의 전압에 연결되어 양극 역할을 하면서 따라서 대상 물질의 층이 기판에 생성하며 이 방법에서 플라즈마를 생성하는 데 사용되는 가장 일반적인 가스는 아르곤 가스이다. 물론 헬륨이나 네온과 같은 다른 희유가스를 사용하는 것도 가능하며 외부 자기장은 일반적으로 플라즈마의 모양을 개선하고 스퍼터링 속도를 높이는 데 사용되며 이 경우 프로세스를 마그네트론 스피터링이라고 한다. 방법에서 음극에서 방출된 전자는 양극으로 직접 이동하는 대신 나선형으로 이동하여 따라서 전자는 음극 근처에서 더 오래 이동하고 더 많은 가스 원자를 이온화한다. 대부분 음극에 인접한 영역의 가스 이온은 전기장 아래에서 음극 쪽으로 가속되어 스퍼터링 이벤트에 참여하며 따라서 음극 근처의 플라즈마 가둠은 마그네트론 스퍼터링 공정에서 스퍼터링 속도와 코팅을 증가시키는 데 도움이 되고 있다. 주사 및 투과전자현미경을 위한 고해상도 이미징을 위한 도체 코팅과 대규모 시편(웨이퍼, 콤팩트 디스크 등)의 도체코팅실험실 및 산업공정용 알루미늄, 크롬, 코발트, 구리, 금, 은, 백금, 몰리브덴 및 티타늄을 사용한 금속코팅이 가능하다.[[https://nanoproduct.ir/product/3298/magnetron%20sputtering%20system|출처]] 반도체소자제조에 있어서 실리콘 웨이퍼를 제거하는 소자가 매우 중요한데 하나가 활성이온을 이용하고 있는 DRIE 에칭 장비로 에칭 장치는 이방성실리콘웨이퍼를 제거하는 기능을 가지고 있으며 방법의 제거율은 다른 방법보다 존재하고 있다.[[https://iranlabexpo.ir/product/58927/%D8%B2%D8%AF%D8%A7%DB%8C%D8%B4-%D8%B9%D9%85%D9%88%D8%AF%DB%8C-%D8%B9%D9%85%DB%8C%D9%82-%D8%A8%D8%A7-%DB%8C%D9%88%D9%86-%D9%81%D8%B9%D8%A7%D9%84|출처]] Rafanco 마스크 얼라이너는 소량생산 및 실험실을 위한 이상적이고 경제적인 도구로 장비는 미크론 이하의 해상도로 제조가 가능하도록 설계하고 있으며 리소그래피 장비는 MEMS, Microfluidics, Microelectronics 및 Optoelectronics 응용분야에서 널리 사용하고 있다.[[https://shop.iranlabexpo.ir/product/86064/%D9%84%DB%8C%D8%AA%D9%88%DA%AF%D8%B1%D8%A7%D9%81%DB%8C-%D8%A8%D8%A7-%D8%B3%D8%A7%D9%85%D8%A7%D9%86%D9%87-%D8%AA%D8%B7%D8%A8%DB%8C%D9%82-%D9%85%D8%A7%D8%B3%DA%A9-%D9%85%D9%88%D8%AA%D9%88%D8%B1%D8%A7%DB%8C%D8%B2-7-%D8%AF%D8%B1%D8%AC%D9%87-%D8%A2%D8%B2%D8%A7%D8%AF%DB%8C|출처]] 용광로, 건식 제거 장치, 스퍼터링, 마스크 얼라이너와 같은 요구 사항과 같은 반도체 장치, 장비 및 장치제조산업으로 마스크 얼라이너는 나노미터 정확도로 샘플을 이동하는 가장 중요한 정밀 기기 중의 하나이다. 얼라이너는 용도가 다른 다양한 유형으로 만들어지므로 자동, 반자동, 수동 등 작업자참여수준에 따라 얼라이너가 설계하게 되었으며 자동정렬장치는 포토레지스트 레이어의 모든공정, 베이킹, 공정에 대해 원하는 마스크가 있는 상태에서 노출, 최종베이킹 또는 마지막 베이킹, 샘플세척과 포토레지스트 레이어 1에 원하는 패턴 생성 등을 완전히 자동으로 수행한다. 반자동정렬장치는 샘플과 마스크의 일치 과정과 노광 작업만 자동으로 수행하고 있으며 일부 작업에는 작업자의 입회가 필요하며 그러나 수동정렬기의 경우 모든 작업은 작업자가 진행해야 한다. 이러한 필요성을 보고 로터스 스마트 나노 센서 컴퍼니에서는 이러한 장치를 제조하자는 아이디어로 이것이 고객의 요구에 따라 설계 또는 제작이 가능한 로터스 반자동 얼라이너라는 아이디어다.[[https://iranlabexpo.ir/product/58928/%D9%85%D8%A7%D8%B3%DA%A9-%D8%A7%D9%84%D8%A7%DB%8C%D9%86%D8%B1|출처]] 팹 마이크로 나노 전자 기업에서 공급받고 있는 반도체 장비들은 대부분 로터스 스마트 나노 센서에서 공급받고 있는 장비로 리소그래피 장비인 4인치 마스크 얼라이너 장비와 실험용 장비 그리고 플라즈마 증착 장비 그리고 상당한 반도체제조장비들을 자체 개발하는데 성공을 이룩하게 되면서 이론상 150nm 수준에 4GB DRAM과 1GB NAND 플래시 메모리 등을 제조가 이론상 가능하다.[[https://www.youtube.com/watch?v=8ZaVOhQP7Sk|영상]] Lotus Smart Nanosensors는 Micro-Nano Fabrication 기술을 기반으로 첨단 전자센서를 제조 및 설계하는 기술개발 분야의 지식기반기업이면서 전문가의 장점 전자, 반도체, 생물학 분야에서 최초로 센서 제조 분야에서 세계 최고 수준의 기술 개발 및 상용화에 성공하였으며 이 회사에서 개발한 기술로는 임피던스 센서, 전기화학센서, MEMS 가속도계, 바이오 센서 등이 존재하고 있다. Lotus Smart Nanosensors Company는 뛰어난 전문가의 혜택 외에도 센서 제조, 스마트 전자 시스템 및 의료 엔지니어링 장비 분야의 주요 인프라와 첨단 장비를 통해 고급 수준에서 다양한 기술 및 엔지니어링 서비스를 제공하는 능력을 준비하고 있다. 10,000 및 1,000 Class 클린룸, 고급 리소그래피 장비, 증착 장비와 습식 및 건식에칭장비와 같은 기본 인프라를 준비하고 있으며 회사의 전문가들은 모든종류의 센서 및 마이크로제조분야에서 세계적 수준의 발전에 발맞추면서 나아가고 있다. 전자시스템분야에서는 첨단설계장비, 조립, 고주파 측정 및 최첨단처리시스템으로 인해 지능형시스템설계, 분석기, 분광계, 반도체부품제조에 필요한 장비 분야에서 서비스를 제공하는 준비하게 되었다. 데이터 및 이미지를 처리하게 되면서 의공학분야에서는 세포배양클린룸, 인큐베이터, 형광현미경, 각종 항체 등의 장비와 시설에 대한 광범위한 연구와 전문인력으로 인해서 세포검사, 유세포분석, 공초점 MTT, RT-PCR, 세포자멸사검사장비도 존재하고 있으며 Sense Your Ideas의 슬로건으로 Lotus Smart Nano Sensors는 전문가의 힘에 의존하며 아이디어를 가시화하려고 추진하게 되었다.[[https://www.barsamtech.ir/post-19|출처]], [[http://inec.nano.ir/equipment|출처]]저장 버튼을 클릭하면 당신이 기여한 내용을 CC-BY-NC-SA 2.0 KR으로 배포하고,기여한 문서에 대한 하이퍼링크나 URL을 이용하여 저작자 표시를 하는 것으로 충분하다는 데 동의하는 것입니다.이 동의는 철회할 수 없습니다.캡챠저장미리보기