문서의 임의 삭제는 제재 대상으로, 문서를 삭제하려면 삭제 토론을 진행해야 합니다. 문서 보기문서 삭제토론 북한/산업 (문단 편집) === 가전 === || [youtube(pjsnsKj4Wzc)] || || 1분 17초에서 1분 24초 사이에 '''평양집적회로시험공장'''과 비슷한 111호 마스크제작소가 존재한다. || [[평양시]] 사동구역에 위치한 [[텔레비전]] 영상장치를 개발하면서 텔레비전과 그 부품을 생산하는 [[대동강텔레비전수상기공장]]은 2005년에는 현대식 디지털 텔레비전 생산을 시작하면서 수동작업이 많아 조립 속도가 느리고 불량률이 높았던 이전 공정과 달리 부품 삽입, 본체 조립, 완성, 포장에 이르는 모든 과정이 자동화가 되면서 대량생산으로 진입하게 되었다. [[1987년]]에 16MB DRAM을 개발하고 [[1991년]] 64MB 디램을 개발한 이후에 [[1997년]] 111호 마스크 제작소가 설립한 이후에 마이크로프로세서 개발을 전환하여 결국 [[2000년]]에 16비트 마이크로컨트롤러를 개발해 시스템 반도체 개발을 파운드리를 하는 데 성공을 하고 있다. [[2004년]]에는 16비트 마이크로컨트롤러를 발명공보에 수록하게 되었으며 [[2005년]]에는 16비트 마이크로프로세서를 개발해 발명공보에 수록하고 [[1998년]]에는 평양집적회로시험공장에서 4GB DRAM의 개발에 완료해서 파운드리를 실증하는데 성공하였다.[[https://unibook.unikorea.go.kr/material/view?materialScope=TOT&sortField=publishYear&sortDirection=DESCENDING&fields=ALL&keywords=4GB&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&method=KEYWORD&configCodes=TOT&configCodes=ART&configCodes=CAT&configCodes=MON&configCodes=NBK&configCodes=SER&publishYearFrom=&publishYearTo=&pageSize=30&uid=ART-93568|4GB DRAM 출처]] [[1998년]] 전자자동화 제3호 학술논문에 개제가 되었으며 [[1999년]]에는 평양집적회로시험공장에 대규모 집적회로 계열생산공정이 완공이 되어 180nm 수준의 집적회로를 개발하는데 성공하여 특히 PDA폰용 16MB DRAM을 개발하였다.[[https://unibook.unikorea.go.kr/material/view?materialScope=TOT&configCodes=TOT&format=&pageSize=30&sortField=publishYear&sortDirection=DESCENDING&method=KEYWORD&fields=ALL&keywords=%EC%A0%84%EC%9A%A9%EC%A7%91%EC%A0%81%ED%9A%8C%EB%A1%9C&uid=ART-93628|180nm 집적회로 출처]], [[https://unibook.unikorea.go.kr/material/view?materialScope=TOT&sortField=publishYear&sortDirection=DESCENDING&fields=ALL&keywords=16MB&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&method=KEYWORD&configCodes=TOT&configCodes=ART&configCodes=CAT&configCodes=MON&configCodes=NBK&configCodes=SER&publishYearFrom=&publishYearTo=&pageSize=30&uid=ART-93603|16MB DRAM 출처]] [[2000년]]에는 1GB NAND 플래시 메모리를 개발하면서 상당 부분의 파장을 일어날 만한 기술을 만드는데 주력하고 있으며 이것을 바탕으로 11월달 이 밑에 있는 내용들이 대부분 개발하거나 완료가 되었다.[[https://unibook.unikorea.go.kr/material/view?materialScope=TOT&sortField=publishYear&sortDirection=DESCENDING&fields=ALL&keywords=%ED%8F%89%EC%84%AC%EA%B4%91%EA%B8%B0%EC%96%B5%EC%9D%B4&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&method=KEYWORD&configCodes=TOT&configCodes=ART&configCodes=CAT&configCodes=MON&configCodes=NBK&configCodes=SER&publishYearFrom=&publishYearTo=&pageSize=30&uid=ART-156492|1GB NAND 플래시 메모리 출처]] 조선중앙통신에 따르면 국가과학원에서 최근 반도체 집적회로를 제조시 반도체의 원재료 웨이퍼 위에 트랜지스터의 회로 구성을 나타내는데 사용하는 사진 필름인 집적회로 마스크 1백여 종을 연구 개발하며 초대규모 마이크로컨트롤러와 여러 종의 DRAM을 포함한 휘발성 메모리와 NAND 플래시 메모리인 비휘발성 메모리를 완성하게 되었다. 또한 집적회로 마스크 제작 공정의 기본 설비의 하나인 레이저 패턴 발생기 광원을 개발하여 이 설비는 정보 처리와 사진 전송 및 레이저 인쇄기와 분광 분석 등 첨단기술분야에 광범히 이용할 수가 있다고 조선중앙통신은 언급하게 되었다.[[http://www.tongilnews.com/news/articleView.html?idxno=1946|통일뉴스 기사]] [[2004년]]에는 90nm급 집적회로를 개발하였을 정황이 포착되었으며 고성능 동기 초대규모집적회로설계에서 표준셀 배치 배선 알고리즘 기술을 개발하여 실제로 설계하였을 가능성이 농후하며 리명진, 최강호 박사가 논문을 발표하였다.[[https://unibook.unikorea.go.kr/material/view?materialScope=TOT&fields=ALL&sortField=publishYear&sortDirection=DESCENDING&keywords=%EC%B4%88%EB%8C%80%EA%B7%9C%EB%AA%A8&uid=ART-386749|초대규모 집적회로 설계 출처]] [[2005년]]에는 0.5um 초점심도의 위상반전마스크를 개발하여 [[2007년]] 65nm ASIC 제작 기술을 확보하면서 설계 기술을 파운드리하는 데 실증하였고 [[2008년]]에는 20nm SiON 게이트용 표준셀 라이브러리 레이아웃을 개발하여 평양 집적회로 시험 공장에 파운드리 하는데 성공을 거두었으며 [[2014년]] 12월 조선중앙통신에서 보도한 바에 따르면 북한에서 현재 20nm급 ASIC 제작 기술을 확보하였다고 밝혔다. [[2017년]]에는 111호 마스크 제작소를 통하여 LP형 HKMG 생산 기술을 준비하는데 성공해 파운드리를 하면서 실증하는데 입증을 하고 나서 뒤에 [[2017년]]에는 10nm FinFET 공정을 개발해 역시 파운드리하면서 입증을 하는데 성공하고 있다. [[2018년]] 11월에 발간된 정보과학에서 북한이 ReRAM과 플래시 메모리를 통합한 고성능기억장치를 기술개발하는 데 성공하게 되면서 이를 시연해 정보과학과 기술논문에 등재하며 논란이 일어나고 있다.[[https://unibook.unikorea.go.kr/material/view?materialScope=TOT&sortField=publishYear&sortDirection=DESCENDING&fields=ALL&keywords=ReRAM&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&conjunctions=AND&fields=ALL&keywords=&method=KEYWORD&configCodes=TOT&configCodes=ART&configCodes=CAT&configCodes=MON&configCodes=NBK&configCodes=SER&publishYearFrom=&publishYearTo=&pageSize=30&uid=ART-390183|고성능기억장치 설계 특허]] 북한 로동신문은 국가과학원에서 올해에 내세운 첨단과학기술부문의 연구과제들을 전부 마무리하고 있으며 국가과학원의 여러 분원, 연구소에서는 당 중앙위원회 제8기 제2차 전원회의 결정을 수행하면서 올해에 핵심적이며 선진적인 첨단기술개발목표를 내세우고 명령을 달성하기 위한 과학연구사업을 적극적으로 진행하고 있다고 보도하게 되었다. 로동신문은 현대화연구소에서 여러 종의 공업용 사물 인터넷 정보기술제품들을 북한식으로 개발해 도입하면서 국가과학원에서는 고속연산기능을 가진 집적회로설계기술을 확립하기 위한 연구에서 전진을 이룩하고 있다고 설명하게 되었다.[[https://www.nkeconomy.com/news/articleView.html?idxno=4827|NK 경제 기사]] [[2022년]]에 북한은 111호 제작소를 통해서 5nm FinFET 공정을 개발하면서 상당한 기술로 세계선진수준으로 발전시키게 되었으며 이를 바탕으로 평양집적회로시험공장을 바탕으로 파운드리하는 데 성공을 이룩하게 되었다. [[2008년]] LED 백라이트 LCD 디스플레이용 LED 휘도 제어 및 구동용 전용 집적회로를 개발해 LED 백라이트 LCD 디스플레이를 제작하고 있는 기술을 획득하는데 성공하면서 LDI 제작기술을 준비하는데 성공을 이룩하였으며 LCD 디스플레이용 미세컬러필터 제작 기술을 확보하는데 성공하고 있다. [[2010년]] 4월에는 LCD 액정 디스플레이의 액정주입방법 및 제작 기술을 확보하는데 성공하게 되면서 발명공보에 이 세가지의 특허가 등록하게 되었으며 2010년 3월 26일 조선중앙통신에 나온 보도에 의하면 LED 백라이트 LCD TV를 제작하는데 성공해 국가과학원에서 독자개발하는데 성공을 이룩하면서 김일성 경기장과 그외에 지역들에 대형전자TV를 제작해서 보급하는데 노력하고 있다. LCD 디스플레이 제작기술을 준비하는데 성공을 이룩하였으며 이론상 디스플레이의 크기의 귀천을 따지지 않고 제작하고 있으며 특히 반도체 제작 기술과 겸해서 LED TV나 LCD TV를 이론상 독자 생산하는 기반이 존재하게 되었다. [[2012년]] 1월 19일에는 PDP 플라즈마 디스플레이 장치를 개발해서 대형 플라즈마 표시 장치의 구동 기술에 성공하였으며 [[2019년]] 6월 5일에는 LCD 액정 디스플레이 장치의 LDI 구동장치 제조 기술을 독자 개발해 LCD TV를 자체 생산하고 있는 기술을 확보하는 데 성공하게 되었다. 그리고 LED 백라이트 LCD TV를 개발하고 있는 여건을 달성하였으며 LCD 디스플레이 제작 기술을 준비하는데 성공을 하면서 이론상 디스플레이의 크기의 귀천을 따지지 않고 제작하였으며 반도체제작기술과 겸해 LED TV나 LCD TV를 이론상 독자 생산하는 기반이 존재하게 되었다.저장 버튼을 클릭하면 당신이 기여한 내용을 CC-BY-NC-SA 2.0 KR으로 배포하고,기여한 문서에 대한 하이퍼링크나 URL을 이용하여 저작자 표시를 하는 것으로 충분하다는 데 동의하는 것입니다.이 동의는 철회할 수 없습니다.캡챠저장미리보기